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半導(dǎo)體氫氣發(fā)生器的應(yīng)用

更新時(shí)間:2023-07-20點(diǎn)擊次數(shù):2009
  氫氣發(fā)生器是實(shí)驗(yàn)室中重要的制取氫氣設(shè)備,如何正確操作氫氣發(fā)生器,對(duì)于實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行有著重要的作用。氫氣發(fā)生器是一種用于氫燃料電池的自調(diào)式氫氣發(fā)生器。氫氣發(fā)生器主要由電解池、流量顯示、開(kāi)關(guān)電源、凈化、液路壓力自控等系統(tǒng)組成。
 

 

  氫氣發(fā)生器啟動(dòng)前要添加氫氧化鉀電解液,充分?jǐn)嚢枞芙猓o等電解液*冷卻后再注入儲(chǔ)液桶中待用,然后加入高純水,注意不能超過(guò)上限水位線,但是也不要低于下限水位線,隨后擰上外蓋。液位管中的白色東西是液位管接口處的潤(rùn)滑劑,不影響使用,待整體換液后就好。
 
  氫氣發(fā)生器的電解池是桶狀的,它在電解池內(nèi)會(huì)存有相當(dāng)一部分電解液,所以將儲(chǔ)液桶內(nèi)的電解液吸干凈后,還需要將氫氣發(fā)生器向后傾斜90°,此時(shí)電解池內(nèi)的電解液就會(huì)流到儲(chǔ)液桶內(nèi),再用洗耳球把儲(chǔ)液桶內(nèi)的電解液吸干凈。然后將內(nèi)蓋裝上后擰上外蓋,以免殘留的電解液在運(yùn)輸時(shí)會(huì)發(fā)生外溢,將氫氣發(fā)生器腐蝕造成無(wú)法修復(fù)的后果。
 
  氫氣作為半導(dǎo)體制造中的氣源,在半導(dǎo)體材料及器件制備中起到至關(guān)重要的作用。可在光電器件、傳感器、IC制造中應(yīng)用。目前半導(dǎo)體工藝中氫氣主要用于退火、外延生長(zhǎng)、干法刻蝕等工藝。
 
  退火是通過(guò)高溫加熱釋放材料內(nèi)部應(yīng)力從而改善材料質(zhì)量的一種材料處理辦法,氫氣作為保護(hù)氣可以起到防止氧化等作用,多用于薄膜生長(zhǎng)后釋放應(yīng)力。氫氣在等離子體刻蝕(RIE/ICP)中作為反應(yīng)氣體出現(xiàn),等離子體刻蝕原理是利用反應(yīng)氣體離化后與材料發(fā)生反應(yīng)生成揮發(fā)性物質(zhì),從而實(shí)現(xiàn)材料圖形化,是半導(dǎo)體器件制備的不可少的工藝。
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